Patent Hub平臺針對專利數(shù)據(jù)常用的一些分析條件進行整合，最終匯集了40多種常用的專利分析模板，同時也支持用戶自定義二維統(tǒng)計分析內(nèi)容，用戶可根據(jù)自己需求來指定圖表展現(xiàn)內(nèi)容。平臺將統(tǒng)計數(shù)據(jù)匯集成圖表形式展現(xiàn)出來，圖表包括折線圖、散點圖、柱形圖、餅圖等。同時系統(tǒng)還針對部分統(tǒng)計維度繪制了世界地圖、中國地圖、面積堆積圖等其他可視化數(shù)據(jù)形式。同時，平臺還支持對用戶統(tǒng)計分析結(jié)果可視化圖形的保存，方便用戶進行分析報告制作，用戶也可以在線保存分析項目。

• 輸入需要分析的關(guān)鍵詞，即可一鍵生成全面的深度專利分析報告；

在創(chuàng)建分析報告的頁面，簡單創(chuàng)建報告標題、介紹、概述等信息后，鍵入最關(guān)心的關(guān)鍵詞內(nèi)容，如：智能打印機或空氣凈化器等關(guān)鍵詞，即可一鍵快速生成專利分析報告，并對每次分析報告進行保存，用戶可選擇下載PDF分析報告的結(jié)果，也可發(fā)送至個人郵箱中；

• 獨具核心價值的專利信息分析報告，精準掌握專利情報；

以專利概況、地域分析、技術(shù)分析、發(fā)明人分析、申請人分析、核心專利分析等10個分析角度，用圖文結(jié)合的形式，詳細對每一個維度的專利情報進行深度分析，并對分析結(jié)果進行深度解讀，便于讓您快速了解專利情報的價值點與趨勢性；

• 全方位對競爭對手進行定位，讓對手無藏身之處。

結(jié)合研發(fā)重點分布、專利處境分析、技術(shù)處境分析、專利年齡分析、企業(yè)定位分析、引證分析等多達七個角度，對專利目前的分布情況、發(fā)展趨勢、競爭對手研發(fā)趨勢等進行全方面分析，可實現(xiàn)讓您快速了解競爭對手概況，調(diào)整研發(fā)戰(zhàn)略與專利布局；