用于還原爐的進(jìn)料管、還原爐及進(jìn)料管孔徑的調(diào)節(jié)方法 技術(shù)領(lǐng)域 [0001] 本發(fā)明涉及多晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種用于還原爐的進(jìn)料管、還原爐及進(jìn)料管孔徑的調(diào)節(jié)方法。 背景技術(shù) [0002] 目前，從國(guó)際太陽(yáng)電池的發(fā)展過(guò)程可以看出其發(fā)展趨勢(shì)為單晶硅、多晶硅、帶狀硅以及薄膜材料(包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜)。 [0003] 其中，多晶硅是單質(zhì)硅的一種形態(tài)。熔融的單質(zhì)硅在過(guò)冷條件下凝固時(shí)，硅原子以金剛石晶格形態(tài)排列成許多晶核，如這些晶核長(zhǎng)成晶面取向不同的晶粒，則這些晶粒結(jié)合起來(lái)，就結(jié)晶成多晶硅。 [0004] 在多晶硅的生產(chǎn)中主要反應(yīng)為還原反應(yīng)，還原反應(yīng)需要在還原爐中進(jìn)行?，F(xiàn)有技術(shù)中，一般是通過(guò)底盤(pán)的噴嘴將氫氣和三氯氫硅混合物料氣體通入到還原爐中，在高溫的環(huán)境中發(fā)生還原反應(yīng)，從而生成多晶硅。 [0005] 但是，從生產(chǎn)結(jié)果來(lái)看，通過(guò)現(xiàn)有技術(shù)生產(chǎn)多晶硅時(shí)，隨著還原爐運(yùn)行工況的變化，不能保證爐內(nèi)流場(chǎng)一直處于最佳狀態(tài)，無(wú)法滿足現(xiàn)有的生產(chǎn)需求。 發(fā)明內(nèi)容 [0006] 本發(fā)明的目的在于提供一種用于還原爐的進(jìn)料管、還原爐及進(jìn)料管孔徑的調(diào)節(jié)方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的還原爐內(nèi)流場(chǎng)不均，無(wú)法滿足現(xiàn)有生產(chǎn)需求的技術(shù)問(wèn)題。 [0007] 為了解決現(xiàn)有技術(shù)還原爐內(nèi)流場(chǎng)不均的問(wèn)題，現(xiàn)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)生產(chǎn)多晶硅的過(guò)程進(jìn)行了研究。發(fā)現(xiàn)多晶硅的生產(chǎn)在還原爐運(yùn)行過(guò)程中，通過(guò)噴嘴通入至還原爐內(nèi)的氫氣和三氯氫硅混合物料氣體的流量是曲線變化的。 [0008] 在多晶硅的一個(gè)運(yùn)行周期中，由于噴嘴的孔徑是固定的，所以隨著還原爐運(yùn)行工況的變化，便不能保證爐內(nèi)流場(chǎng)一直處于最佳狀態(tài)。 [0009] 所以，為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)便提供了下述技術(shù)方案，具體如下。 [0010] 本發(fā)明提供的一種用于還原爐的進(jìn)料管，包括： [0011] 進(jìn)料管體； [0012] 噴嘴，所述噴嘴設(shè)置在所述進(jìn)料管體的出口； [0013] 所述噴嘴的內(nèi)腔具有自所述噴嘴的第一端至第二端貫穿的噴孔，所述噴嘴沿所述噴孔的中軸線所在平面分隔為第一部件和第二部件； [0014] 所述第一部件上的噴孔部分的直徑自所述噴嘴的第一端至第二端逐漸減?。? [0015] 所述第二部件上的噴孔部分的直徑自所述噴嘴的第一端至第二端逐漸增大。 [0016] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述進(jìn)料管還包括控制機(jī)構(gòu)； [0017] 所述控制機(jī)構(gòu)與所述第一部件連接，用于驅(qū)動(dòng)所述第一部件相對(duì)于第二部件軸向移動(dòng)； [0018] 或者，所述控制機(jī)構(gòu)與所述第二部件連接，用于驅(qū)動(dòng)所述第二部件相對(duì)于第一部件軸向移動(dòng)。 [0019] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述控制機(jī)構(gòu)包括控制器和聯(lián)動(dòng)組件； [0020] 所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的外壁穿透該進(jìn)料管體并與所述第一部件連接；所述控制器與所述聯(lián)動(dòng)組件連接，用于通過(guò)所述聯(lián)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述第一部件相對(duì)于第二部件軸向移動(dòng)； [0021] 或者，所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的外壁穿透該進(jìn)料管體并與所述第二部件連接；所述控制器與所述聯(lián)動(dòng)組件連接，用于通過(guò)所述聯(lián)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述第二部件相對(duì)于第一部件軸向移動(dòng)。 [0022] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述聯(lián)動(dòng)組件包括傳動(dòng)桿； [0023] 所述傳動(dòng)桿的一端與所述第一部件或所述第二部件連接，所述傳動(dòng)桿的另一端與所述控制器連接。 [0024] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述控制機(jī)構(gòu)還包括密封組件； [0025] 所述密封組件設(shè)置在所述聯(lián)動(dòng)組件穿透所述進(jìn)料管體的位置，用于密封所述進(jìn)料管體。 [0026] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述密封組件包括密封圈。 [0027] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述進(jìn)料管體設(shè)置有彎曲部，使所述進(jìn)料管體的上部和下部呈角度設(shè)置。 [0028] 進(jìn)一步的，在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的彎曲部的外壁穿透該進(jìn)料管體。 [0029] 本發(fā)明還提供了一種還原爐，包括所述進(jìn)料管。 [0030] 本發(fā)明還提供了一種進(jìn)料管孔徑的調(diào)節(jié)方法，根據(jù)所述進(jìn)料管，具體如下： [0031] 驅(qū)動(dòng)所述第一部件和所述第二部件相對(duì)軸向移動(dòng)，使所述第一部件上的噴孔部分和所述第二部件上的噴孔部分相對(duì)交錯(cuò)調(diào)整有效孔徑大小。 [0032] 在上述技術(shù)方案中，通過(guò)所述進(jìn)料管上由第一部件和第二部件所構(gòu)成的噴嘴，便能夠任意調(diào)整噴孔的孔徑大小。在進(jìn)行還原反應(yīng)的時(shí)候，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以隨著還原爐運(yùn)行工況的變化，調(diào)整噴孔的孔徑大小，進(jìn)而調(diào)整進(jìn)入爐內(nèi)的氫氣和三氯氫硅混合物料氣體的流速，使?fàn)t內(nèi)流場(chǎng)一直處于最佳狀態(tài)，提高多晶硅的生產(chǎn)效果。 附圖說(shuō)明 [0033] 為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

1.一種用于還原爐的進(jìn)料管，其特征在于，包括： 進(jìn)料管體； 噴嘴，所述噴嘴設(shè)置在所述進(jìn)料管體的出口； 所述噴嘴的內(nèi)腔具有自所述噴嘴的第一端至第二端貫穿的噴孔，所述噴嘴沿所述噴孔的中軸線所在平面分隔為第一部件和第二部件； 所述第一部件上的噴孔部分的直徑自所述噴嘴的第一端至第二端逐漸減??； 所述第二部件上的噴孔部分的直徑自所述噴嘴的第一端至第二端逐漸增大； 還包括控制機(jī)構(gòu)； 所述控制機(jī)構(gòu)與所述第一部件連接，用于驅(qū)動(dòng)所述第一部件相對(duì)于第二部件軸向移動(dòng)； 或者，所述控制機(jī)構(gòu)與所述第二部件連接，用于驅(qū)動(dòng)所述第二部件相對(duì)于第一部件軸向移動(dòng)。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述控制機(jī)構(gòu)包括控制器和聯(lián)動(dòng)組件； 所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的外壁穿透該進(jìn)料管體并與所述第一部件連接；所述控制器與所述聯(lián)動(dòng)組件連接，用于通過(guò)所述聯(lián)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述第一部件相對(duì)于第二部件軸向移動(dòng)； 或者，所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的外壁穿透該進(jìn)料管體并與所述第二部件連接； 所述控制器與所述聯(lián)動(dòng)組件連接，用于通過(guò)所述聯(lián)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述第二部件相對(duì)于第一部件軸向移動(dòng)。 3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述聯(lián)動(dòng)組件包括傳動(dòng)桿； 所述傳動(dòng)桿的一端與所述第一部件或所述第二部件連接，所述傳動(dòng)桿的另一端與所述控制器連接。 4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述控制機(jī)構(gòu)還包括密封組件； 所述密封組件設(shè)置在所述聯(lián)動(dòng)組件穿透所述進(jìn)料管體的位置，用于密封所述進(jìn)料管體。 5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述密封組件包括密封圈。 6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述進(jìn)料管體設(shè)置有彎曲部，使所述進(jìn)料管體的上部和下部呈角度設(shè)置。 7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的進(jìn)料管，其特征在于，所述聯(lián)動(dòng)組件在所述進(jìn)料管體的彎曲部的外壁穿透該進(jìn)料管體。 8.一種還原爐，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的進(jìn)料管。 9.一種進(jìn)料管孔徑的調(diào)節(jié)方法，其特征在于，根據(jù)如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的進(jìn)料管，具體如下： 驅(qū)動(dòng)所述第一部件和所述第二部件相對(duì)軸向移動(dòng)，使所述第一部件上的噴孔部分和所述第二部件上的噴孔部分相對(duì)交錯(cuò)調(diào)整有效孔徑大小。