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顯示設(shè)備及制造該顯示設(shè)備的方法

專(zhuān)利號(hào)
CN111987237B
公開(kāi)日期
2025-04-29
申請(qǐng)人
三星顯示有限公司(韓國(guó)京畿道龍仁市)
發(fā)明人
尹亨根; 李泓燃; 姜錫訓(xùn); 金熙羅; 樸秀智; 申范秀
IPC分類(lèi)
H10K50/844; H10K71/00; H10K59/12; H10K50/84
技術(shù)領(lǐng)域
像素,電極,顯示設(shè)備,表面能,發(fā)光,顯示,有機(jī),基底,凹凸,限定
地域:

摘要

提供了一種顯示設(shè)備及制造該顯示設(shè)備的方法。該顯示設(shè)備包括在等離子體照射之后在保持外圍層的拒液性質(zhì)的同時(shí)具有改善的可靠性的發(fā)光器件。該顯示設(shè)備包括:基底;像素電極,設(shè)置在基底上;像素限定層,設(shè)置在像素電極上并且具有使像素電極的中心部分暴露的開(kāi)口;以及拒液層,設(shè)置在像素限定層上并且具有具備凹凸結(jié)構(gòu)的上表面。

說(shuō)明書(shū)

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[0027] 第一拒液劑和第二拒液劑中的每者可以具有15達(dá)因/厘米或更小的表面能,并且第一拒液劑的第一表面能可以比第二拒液劑的第二表面能大4達(dá)因/厘米至10達(dá)因/厘米。 [0028] 拒液層可以具有30nm與70nm之間的厚度。 [0029] 通過(guò)附圖、權(quán)利要求和具體實(shí)施方式,本公開(kāi)的其他方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更好理解。 [0030] 本公開(kāi)的總體方面和具體方面可以利用系統(tǒng)、方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)和/或它們的任何組合中的一個(gè)(種)或更多個(gè)(種)來(lái)執(zhí)行。 附圖說(shuō)明 [0031] 通過(guò)下面結(jié)合附圖的描述,本公開(kāi)的某些實(shí)施例的以上和其他方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將更加明顯,在附圖中: [0032] 圖1是根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備的透視圖; [0033] 圖2是根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備中包括的像素的等效電路圖; [0034] 圖3是根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備的剖視圖; [0035] 圖4A至圖4C是示出根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備中的拒液劑的側(cè)鏈比的圖; [0036] 圖5A至圖5B是示出根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備中的形成在拒液層的上表面中的凹凸結(jié)構(gòu)的圖; [0037] 圖6是根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備的剖視圖; [0038] 圖7至圖11是示出根據(jù)實(shí)施例的制造顯示設(shè)備的一些工藝的剖視圖; [0039] 圖12是示出根據(jù)另一實(shí)施例的在顯示設(shè)備的制造中的一些工藝的剖視圖;以及[0040] 圖13是示出根據(jù)另一實(shí)施例的在顯示設(shè)備的制造中的一些工藝的剖視圖。 具體實(shí)施方式 [0041] 現(xiàn)在將對(duì)本公開(kāi)的示例性實(shí)施例做出詳細(xì)參照,在附圖中示出了本公開(kāi)的示例性實(shí)施例,其中,同樣的附圖標(biāo)記始終表示同樣的元件。在這方面,示例性實(shí)施例可以具有不同的形式,并且不應(yīng)被解釋為限于在這里闡述的描述。因此,在下面僅通過(guò)參照?qǐng)D來(lái)描述示例性實(shí)施例,以解釋本描述的方面。如在這里使用的,術(shù)語(yǔ)“和/或”包括相關(guān)所列項(xiàng)中的一個(gè)或更多個(gè)的任何組合和全部組合。諸如“……中的至少一個(gè)(種/者)”的表述位于一列元件之后時(shí),可以修飾該列元件,并且可以不修飾該列中的個(gè)別元件。 [0042] 將在下面參照附圖更詳細(xì)地描述示例實(shí)施例。相同或相應(yīng)的那些組件被提供相同的附圖標(biāo)記,而與圖號(hào)無(wú)關(guān),并且省略了冗余的解釋。 [0043] 盡管可以使用諸如“第一”、“第二”等的術(shù)語(yǔ)來(lái)描述各種組件,但是這樣的組件不受以上術(shù)語(yǔ)限制。以上術(shù)語(yǔ)僅用于將一個(gè)組件與另一組件區(qū)分開(kāi)。 [0044] 以單數(shù)形式使用的表述包括復(fù)數(shù)形式的表述,除非其在上下文中具有明顯不同的含義。 [0045] 在本說(shuō)明書(shū)中,將理解的是,術(shù)語(yǔ)“包括”、“具有”和“包含”意圖表示存在說(shuō)明書(shū)中公開(kāi)的特征、數(shù)量、步驟、動(dòng)作、組件、部件或它們的組合,而不意圖排除可以存在或可以添加一個(gè)或更多個(gè)其他特征、數(shù)量、步驟、動(dòng)作、組件、部件或它們的組合的可能性。 [0046] 將理解的是,當(dāng)層、區(qū)域或組件被稱(chēng)為“形成在”另一層、區(qū)域或組件“上”時(shí),該層、區(qū)域或組件可以直接或間接形成在所述另一層、區(qū)域或組件上。也就是說(shuō),例如,在它們之間可以存在一個(gè)或更多個(gè)中間層、中間區(qū)域或中間組件。 [0047] 為了便于解釋?zhuān)梢钥浯蟾綀D中的組件的尺寸。換言之,因?yàn)闉榱吮阌诮忉尪我獾厥境隽烁綀D中的組件的尺寸和厚度,所以在附圖中示出的實(shí)施例不限于此。 [0048] 當(dāng)可以不同地實(shí)施某些實(shí)施例時(shí),可以與所描述的順序不同地執(zhí)行具體的工藝順序。例如,可以基本同時(shí)執(zhí)行或者可以以與所描述的順序相反的順序執(zhí)行兩個(gè)連續(xù)描述的工藝。 [0049] 在說(shuō)明書(shū)中,詞組“A和/或B”表示A、B或者A和B。此外,詞組“A和B中的至少一個(gè)(種/者)”表示A、B或者A和B。 [0050] 在下面描述的實(shí)施例中,將理解的是,當(dāng)層、區(qū)域、元件等被稱(chēng)為被“連接”時(shí),它們可以直接連接,或者可以在層、區(qū)域或元件之間存在一個(gè)或更多個(gè)中間部分。例如,當(dāng)層、區(qū)域、元件等被稱(chēng)為被“電連接”時(shí),它們可以直接電連接,一個(gè)或更多個(gè)層、區(qū)域或元件可以間接電連接,并且/或者可以存在一個(gè)或更多個(gè)中間部分。 [0051] x軸、y軸和z軸不限于直角坐標(biāo)系的三個(gè)軸,并且可以以更廣泛的含義進(jìn)行解釋。 例如,x軸、y軸和z軸可以彼此垂直,或者可以表示彼此不垂直的不同方向。 [0052] 在下文中,根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備1被描述為作為示例的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備,但是本公開(kāi)的顯示設(shè)備1不限于此。在實(shí)施例中,顯示設(shè)備1可以包括無(wú)機(jī)發(fā)光顯示器、無(wú)機(jī)電致發(fā)光(EL)顯示設(shè)備或量子點(diǎn)發(fā)光顯示設(shè)備。例如,包括在顯示設(shè)備1中的顯示元件的發(fā)光層可以包括有機(jī)材料、量子點(diǎn)或者有機(jī)材料和量子點(diǎn)。 [0053] 圖1是根據(jù)實(shí)施例的顯示設(shè)備1的透視圖。 [0054] 參照?qǐng)D1,顯示設(shè)備1包括顯示區(qū)域DA和非顯示區(qū)域NDA,其中,顯示區(qū)域DA顯示圖像,而非顯示區(qū)域NDA不顯示圖像。顯示設(shè)備1可以通過(guò)利用從布置在顯示區(qū)域DA中的多個(gè)像素P發(fā)射的光來(lái)提供圖像。

權(quán)利要求

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