向非空變性質(zhì),可將在距離向上 位置處 個(gè)目標(biāo)的方位向坐標(biāo)統(tǒng)一的取值
為: ,其中 表示在距離向上 位置處 個(gè)目標(biāo)共同的方位向坐
標(biāo)。
[0023] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),在所述步驟S3中,根據(jù)合成孔徑聲納的精
確傳播時(shí)間,計(jì)算合成孔徑聲納收、發(fā)陣元運(yùn)動所歷經(jīng)的雙程斜距歷程的計(jì)算公式為:
,其中下
標(biāo) 表示第 個(gè)接收陣元和發(fā)射陣元所組成的第 個(gè)子系統(tǒng), 表示目標(biāo)在距離向的坐
標(biāo), 表示在距離向上 位置處 個(gè)目標(biāo)共同的方位向坐標(biāo), 表示方位向慢
時(shí)間, 表示第 個(gè)接收陣元和發(fā)射陣元所組成的第 個(gè)子系統(tǒng)中收發(fā)陣元之間的距
離,其滿足 , 表示接收陣元總個(gè)數(shù), 表示聲納平臺在方位向的運(yùn)動速度,
表示水下聲速。
[0024] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),在所述步驟S4中,針對待評估成像模型的
近似斜距歷程計(jì)算距離誤差的計(jì)算公式為: ,其中 表示
針對第 個(gè)接收陣元計(jì)算的位于 位置處目標(biāo)的距離, 表示待評估成像模型針對第
個(gè)接收陣元計(jì)算的位于 位置處目標(biāo)的距離, 表示對應(yīng)于發(fā)射信號中心頻率的波長,
表示依賴于方位向慢時(shí)間 、目標(biāo)距離 、收發(fā)陣元間距 的距離誤差。
[0025] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),在所述步驟S5中,在距離誤差基礎(chǔ)上添加
陣元指向性函數(shù)的影響的計(jì)算公式是 ,其中 表
示位于 位置處目標(biāo)相對發(fā)射陣元的角度,其計(jì)算公式為: ,其中
表示求反正切計(jì)算, 表示發(fā)射陣元的二進(jìn)制指向性函數(shù),如果 ,則
的取值為1,如果 ,則 的取值為0,其中 表示考慮
陣元指向性函數(shù)的距離誤差,其依賴于方位向慢時(shí)間 、目標(biāo)距離 、收發(fā)陣元間距 。
[0026] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),在所述步驟6中,對所計(jì)算的距離誤差求平
均處理的計(jì)算公式為:
,其中 表示求極大值處理, 表示求極小值處理, 表示平均處理后的
誤差,其賴于目標(biāo)距離 、收發(fā)陣元間距 。
[0027] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),在所述步驟7中,針對不同的目標(biāo)距離
和第 接收陣元,分別計(jì)算對應(yīng)的距離誤差 。
[0028] 依本發(fā)明的另一個(gè)方面,本發(fā)明進(jìn)一步提供一種合成孔徑聲納成像模型的二維距
離誤差分析系統(tǒng),其包括:
[0029] 第一確定單元,用于在距離向上根據(jù)等間距采樣的方式確定目標(biāo)的距離;
[0030] 第二確定單元,用于在方位向上根據(jù)波束寬度確定最遠(yuǎn)距離目標(biāo)所對應(yīng)的合成孔
徑長度及目標(biāo)在方位向上的坐標(biāo);
[0031] 第一計(jì)算單元,用于根據(jù)合成孔徑聲納的精確傳播時(shí)間計(jì)算合成孔徑聲納收、發(fā)
陣元運(yùn)動所歷經(jīng)的雙程斜距歷程;
[0032] 第二計(jì)算單元,用于針對待評估成像模型的近似斜距歷程計(jì)算距離誤差;
[0033] 添加單元,用于在距離誤差基礎(chǔ)上添加陣元指向性函數(shù)的影響;
[0034] 平均處理單元,用于對所計(jì)算的距離誤差求平均處理;
[0035] 第三計(jì)算單元,用于針對所有目標(biāo)、所有接收陣元,計(jì)算距離誤差,以得到二維距離誤差。
[0036] 作為本發(fā)明的技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一確定單元在距離向上根據(jù)等間距
采樣的方式確定目標(biāo)的距離的計(jì)算公式為: ,
[0037] 其中 表示目標(biāo)距離,下標(biāo) 表示在測繪帶內(nèi)以等間距方式取的 個(gè)
不同目標(biāo)的距離,且所有距離按照從小到大的順序排列,第一個(gè)距離值 大于測繪帶的最
小距離,最后一個(gè)距離值 小于測繪帶的最大距離。
[0038] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有至少以下有益效果:在本發(fā)明的所述二維距離誤差
分析方法中,所提出的所述二維距離誤差分析方法能夠直接定量計(jì)算合成孔徑聲納成像模
型的距離誤差,并根據(jù)誤差直接評估成像模型的優(yōu)劣,極大地提升了效率。
[0039] 本發(fā)明的其他有益效果在接下來的描述中將被進(jìn)一步揭露。
附圖說明
[0040] 圖1為本發(fā)明的一種二維距離誤差分析方法的計(jì)算流程。
[0041] 圖2為收發(fā)分置合成孔徑聲納子系統(tǒng)的二維成像幾何。
[0042] 圖3為成像結(jié)果的方位向剖面圖,其中(a)為30m距離處目標(biāo)方位向剖面,(b)為
200m距離處目標(biāo)方位向剖面。
[0043] 圖4為本發(fā)明計(jì)算的誤差圖。
[0044] 圖5為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的一種二維距離誤差分析方法的流程圖。
[0045] 圖6為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的一種二維距離誤差分析系統(tǒng)的框圖示意圖。
[0046] 圖7為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的一種計(jì)算裝置的框圖示意圖。
[0047] 圖中:
[0048] 600、二維距離誤差分析系統(tǒng);610、第一確定單元;620、第二確定單元;630、第一計(jì)算單元;640、第二計(jì)算單元;650、添加單元;660、平均處理單元;670、第三計(jì)算單元;
[0049] 700、計(jì)算裝置;710、存儲器;720、處理器;730、輸入裝置;740、輸出裝置。
具體實(shí)施方式
[0050] 在詳細(xì)說明本發(fā)明的任何實(shí)施方式之前,應(yīng)理解的是,本發(fā)明在其應(yīng)用中并不限